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二氧化铪|二氧化铪厂家直销|二氧化铪质优价廉*选石久高研

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详细说明

    氧化铪

化学符号：HfO2

外    观：白色

分 子 量：210.49

密    度：9.7g/cm³

熔    点：2500℃

折射率（波长/nm）：1.9-2.1（300）

   1.84-2.0（2500）

沸    点：5400℃

线膨胀系数：5.8×10-6/℃（250-1300）

10¯4真空下蒸发温度为：2500℃

蒸发方式：电子束

透明波段/nm：235-2500

介电常数：20.5-23

比    容：0.05μF/cm2

电容温度系数TCC：（1.25～2.50）×10-4/℃

性    能：适于电子枪蒸发，成膜致密稳定。紫外波段的优良材料。不溶于水，耐化学性质，但在高温下能与氢氧化物起反应，膜坚硬；

应    用：主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近红外多层膜。

          HfO2薄膜是一种绝缘氧化物，即可做薄膜电阻，又可做介子薄膜，一般用溅射法沉积制备。

HfO2分析报告:

Ti Fe Mn Mg Cr Ni

0.0 1 0.012 0.001 0.015 0.005 0.009

Al  Cu      

0.0 1 0.005

 
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